美国芯片禁令变本加厉国产AI芯片逆风前行
来源/21tech（News-21）作者/倪雨晴 江月编辑/林曦图源/视觉中国“AI芯片战火升级。美国当地时间10月17日，美国商务部工业和安全局（BIS）发布了针对芯片的出口禁令新规，对于中国半导体的制裁进一步升级。从新规名称可以看到，此次限制的核心对象是先进计算半导体、半导体制造设备和超级计算机项目。而此次新规事实上是美国对2022年10月7日发布的规则进行修改更新的版本，更加严格地限制了中国
佳能售卖5nm芯片生产设备，国产电动MINI下线，FTC对微软提诉讼，印度放弃笔记本、平板等进口限制，这就是今天的其他大新闻！
今天是10月14日农历八月三十英雄联盟的 S13 和刀塔的 TI13最近都开赛了离谱的是米哈游的《崩坏：星穹铁道》竟然赞助了个刀塔战队一款游戏赞助另外一款游戏的战队这是什么操作啊？下面是今天的其他大新闻# 非光刻方案，佳能开始销售 5nm 芯片生产设备（ IT 之家）佳能（ Canon ）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产
不用光刻机也能造芯片，佳能推出5nm芯片生产设备
佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展
非光刻方案，佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm
EUV光刻机瓶颈待破，下一代技术怎么走?
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今年将按计划在其下一个产品线中推出首款测试工具。据了解，该款高数值孔径的极紫外光刻(EUV)机器只有卡车大小，每台成本超过 3 亿欧元，顶级芯片制造商需要这些机器，以便他们能够在
韩国前车之鉴在前，ASML继续对华出口光刻机，再封锁市场都没了
近年来，中国科技的快速发展已经引起了美国的不安。为了维护自身的霸权地位，美国开始采取一系列措施对中国进行打压。甚至与日本、韩国和荷兰等国家联合组建了一个所谓的“四方同盟”，制定了一份协议，通过全面制裁我国的科技领域来削弱中国。荷兰ASML掌握着全球90%的光刻机订单，其中大部分来自中国。迫于美国的压力，荷兰政府不得不加入“四方同盟”，光刻机出口需获得政府许可。根据最新消息，截至今年底，ASML还能
光刻机之争掀起第三波浪潮
当下，光刻机在半导体行业的地位前所未有的重要，而且已经突破了技术和产业范畴，引发了新一波光刻机之争。从历史发展情况来看，光刻机（这里主要指用于制造集成电路前道工序的光刻机）的发展和应用经历了很多波折，总体来看，有两个值得关注的时期，一个是ASML依靠浸没式技术，异军突起，并将原本的行业两强甩在身后，这是技术之战，另一个是EUV商用化之后，先进制程（从16nm开始）争夺战打响，台积电、三星电子和英特
华为麒麟9000S对ASML意味着什么？
文/何伊然编辑/杨羽如果没有这些年美国发起的“芯片战争”，ASML可能不会被大众所知。如果搭载麒麟9000S芯片的华为mate 60 pro没有突然发售，ASML可能依然是无法企及的“神”。它掌握着全世界芯片供应的命门——光刻机。光刻机是制造芯片的核心装备，除了ASML，日本尼康也有光刻机业务，但主流的深紫外线光刻机（DUV）、极紫外线光刻机（EUV）几乎被ASML垄断，其中顶尖的EUV光刻机只有
